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箱田 照幸; 松本 加奈江; 水野 彰*; 成田 正*; 小嶋 拓治; 広田 耕一
IEEE Transactions on Industry Applications, 44(6), p.1950 - 1956, 2008/11
被引用回数:3 パーセンタイル:34.2(Engineering, Multidisciplinary)塗料工場からの換気ガス中に含まれるキシレンなどの電子ビーム(EB)照射による分解処理技術の開発のために、EB照射と触媒であるAg担持TiOを併用して、キシレンやその照射副生成物の分解を促進する触媒設置条件を明らかにするととともに、触媒表面上の酸化反応を定量した。その結果、照射空間の下流への触媒導入により、照射副生成物のCOへの選択的な酸化が認められ、特にAg担持量が5wt%以上の場合に最大のCO生成量が得られることがわかった。さらに、非照射空間における副生成物の酸化反応では照射由来のOから解離した活性酸素が照射副生成物の酸化分解に関与している可能性があることを明らかにした。